; 就是这一年，岛内的积架公司发明了一种名为“浸没式光刻”的技术。
这项技术的出现，是一个里程碑。
它直接决定了下一代关键芯片制造设备，也就是光刻机的发展方向。
可以说，2003年，就是浸没式光刻机的诞生元年。
也正是从这一年开始，一家原本并不算突出的荷兰公司——阿斯梅尔（ASML），开始了它的传奇起飞之路。
刘清明记得很清楚，此时此刻的阿斯梅尔，应该还没有造出他们的第一台浸没式光刻机。
而掌握这项核心技术的岛内工程师王坚，正在欧洲各大光刻机厂商之间奔走，试图推销自己的技术。
最终，是阿斯梅尔抓住了这个机会，与王坚达成了合作。
这一步棋，直接将当时雄霸光刻机市场的日本巨头，尼康和佳能，打得溃不成军，最终黯然退出了顶级光刻机市场的争夺。
阿斯梅尔，则一步步走上了全球霸主的宝座。
也正是从这一年开始，半导体制造的摩尔定律，在这项技术的加持下，又延续了将近二十年。
而这，也成了日后华夏高端制造业一个挥之不去的阴影。
直到刘清明重生的那一年，国产光刻机在顶级制程上，依然没有取得决定性的突破。
重活一世，再次站到这个历史的关键节点上，刘清明的心中，涌起一股难以言喻的冲动。
他或许改变不了历史的大势，但如果能在这个节点上，为国家，为民族做点什么，哪怕只是埋下一颗小小的种子，也足以让他感到慰藉。