f技术路线，因为林本坚这次在参加光学大会接受采访的时候自己说的。
“是帮光刻机公司打掩护吗？”
林本坚笑了：“我已经从ib离职了，ib这几年也几乎没有在光刻机领域继续投入了。
我又没有为尼康或者佳能工作，为什么要帮他们打掩护。
我当然是从我内心出发更加看好arf技术路线。
我们刚刚说的是arf的缺点，这些缺点只是暂时的。
在krf光源代替g线和i线的过程中，同样有很多困难。”
g线是436n波长的光源，i线是365n波长的光源。
“相对于g线和i线，krf需要新的光刻胶和抗反射涂层材料来适应krf光源的特性。
同时krf要求更高性能的光学系统和光掩膜材料。
当时需要采用更先进的透镜和光学元件，以实现更高的数值孔径和分辨率。
此外，光掩膜材料也需要具有更低的散射和吸收特性。
krf还需要优化曝光过程，以提高成像质量。
我们当时主要采用了双重曝光和离焦曝光技术来降低光刻误差。
让我想想，对了，我们当时在研发krf光源的时候还要对控制进行考虑，因为krf实现了更高的分辨率，所以需要更严格的制程控制要求。
需要对光刻胶涂覆厚度、曝光剂量、显影过程等参数进行更精确的控制，以保证光刻成像质量和产量。
这么多困难，我们照样克服了，最终krf光源代替了g线和i线，成为了今天的最先进的制程光源。
同样未来短波长的光源势必然会代替长波长的光源，这是技术进步的必然。
我们刚刚讨论的困难只是暂时的困难。”
asl、尼康和佳能只是暂缓了在arf上的投入，而不是停止了在arf技术路线上的投入。
后来asl实现弯道超车，也是因为他们选择了正确的技术路线，arf光源以水为介质，在光刻胶上面抹一层水。
水的介质折射率是144，193纳米÷144≈134纳米，arf光源的波长进一步减少了。
asl能够干掉尼康和佳能，垄断光刻机领域，他们在技术路线的两个关键节点都做出了正确的选择。
应该稳健的时候他们比尼康稳健，从而在光刻机市场站稳了脚跟。
应该激进的时候他们比尼康激进，从而占据了高端市场，把高额利润全部吃掉了，后续一直保持住了技术领先。
arf技术路线突破之后，arf的波长是193n，他最多能够制造65n的芯片。
如果要制造40n制程以下的芯片，需要找到160n以下的光源。
尼康和佳能等企业选择的是157n的f2激光，而asl找到了光源做介质直接一步到位了。
当然没有加一层水那么简单。
“我关于arf技术路线一直认为是有办法解决的。
首先是需要专门针对arf光源设计对应的光刻胶，其次是研发抗反射涂层，然后是改进光刻机的光学系统，找蔡司定制更先进的透镜。
来实现更高的数值孔径和分辨率。
同时在曝光过程中进行优化。<