; 它的缺陷，不是出在上限，而是出在下限，出在从实验室走向大规模量产的每一个不起眼的环节里。
我把它总结为以下几点，首先是我认为最要命的，我称之为缺陷瀑布。”
这个词一出口，就引起了一阵小小的骚动。
中芯国际的代表梁孟松显然对缺陷这个词很敏感，他马上皱起了眉头。
陈磊伸出一根手指，语气变得无比严肃：“传统的光刻，无论是DUV还是EUV，都是非接触式的。
这点在座各位我相信都非常清楚。
光穿过掩膜版，投射在晶圆上。
即使掩膜版上有一个尘埃，经过光学系统的缩小，对单个芯片的影响也相对可控。
但NIL是接触式的，是物理压印！
这意味着，只要有一个纳米级的颗粒掉在模板上，或者在压印过程中产生，会发生什么？”
他停顿下来，让所有人有时间能思考这个问题。
“结果就是，这个缺陷会被模板像图章一样，盖在它接触的每一个芯片单元上。
更可怕的是，这个颗粒可能会污染模板，让模板本身成为一个污染源，在后续的每一片晶圆上，不断地、重复地复制这个缺陷。
这不是一个点的问题，而是一条线的、一个面的灾难。
我们称之为Defect Propagation，缺陷传播。
在德州电子研究所，我们曾经有一个项目，就是因为一次微小的污染，导致连续报废了13片晶圆，直接损失超过80万美元。
佳能的解决方案是什么？加强清洁，实时检测。
但这背后意味着生产线需要频繁地停机、检测、清洗模板。
其损失的产能和时间成本，会疯狂地吞噬它在设备采购上省下的钱！
这就是缺陷瀑布，一旦开闸，瞬间冲垮你的良率和成本防线。”
陈磊继续说道：“然后是材料学的黑箱。
NIL技术的核心，除了设备，还有一样东西，光