其他专家固然没有办法从专业的角度听懂其中的难度,但光是凭借直觉就能明白这有多难了。
用一个拥有近乎无穷解空间的、典型的NP-hard问题,这些形容词和最后的名词,听起来就觉得困难。
近乎无穷解,在数学知识大约等于数学系大一大二学生的工业专家们看来,和近乎无法求解没有区别。
坐在魏哲边上的专家,看他的脸色也能看出端倪,看魏哲一副惊呆的样子,就知道林燃又做了什么惊天动地的结果出来。
梁孟松举手,林燃点了点头:“梁工,你说。”
“林总,”梁孟松的语气很沉重,“您从算法层面为我们提供了解决方案,现在我们从理论上能做到。
但是在现实世界中要到,我们需要有精度足够高的模板,有了这样的模板,我们才能用NIL光刻机去印所谓的超构透镜,才能拥有传统路线光刻机所需的镜头。
我解释一下,我们要制造的,是带有5纳米级别结构的超构透镜母版模板。
而要制造这个母版,我们需要一台电子束写入机。”
“这东西,就像一支笔。”梁孟松努力用最简单的语言解释,“光刻机,像一台巨大的印刷机,可以把模板上的图案,一秒钟复印几十次。
而电子束写入机,就是那支用来制作印刷母版的、最原始的笔。
你的笔有多细,决定了你的母版有多精细。
而我们,我们国产的、最先进的电子束写入机,能稳定刻画的最小线宽,是65纳米。
用65纳米的笔,去雕刻5纳米的图案,这是不可能的。”
多电子束写入机是一种用于高精度图案转移的先进半导体制造设备,通过使用多个电子束同时在晶圆上写入图案。
梁孟松说的更常见一点的名词叫掩膜版,光透过掩膜版在硅片上印上图案,掩膜版的精度决定了硅片上集成电路的精度。
用来制作掩膜版的机器就叫多电子束写入机,它一次只能制作一块掩膜版,适用于小批量、高复杂性的图案制造需求。
总结来说,没有最先进的电子束写入机,就无法制造出用于生产最先进芯片的掩膜版。
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