“0.6纳米？比老美的精度还要更高？”
“那岂不是意味着我们能造0.6纳米的透镜？卧槽，这回是光源跟不上镜头了。”
杨院士的脸上是掩饰不住的自豪，这可是我们浙大搞的！
“为了让大家理解，我继续用笔来做比喻。
8纳米线宽，是羲之这支笔，在宣纸上能写出的稳定清晰的那个笔锋。
而0.6纳米精度，则是这支笔的笔尖，本身是由几根更加纤细的、几乎达到原子尺度的狼毫组成的。
你必须拥有一根足够锐利的笔尖，才有可能去驾驭和书写出极细的笔锋。”
林燃直视梁孟松：“梁工程师，我想你应该想到了。”
此时的梁孟松已经两眼放光：“用这支8纳米的笔，我们确实没有办法画出5纳米的母版。
8纳米的极限，意味着我们无法稳定、大规模地制造出完美的5纳米结构。
良率会是一个灾难。
这可是一次性要画超过10的14次方个天线结构，这确实做不到。
但是我们可以用这支笔，去设计一套更聪明的笔法。
我们能用DUV光刻机通过多重曝光技术，造出远比它极限更低的电路尺寸。
同样的我们可以借鉴在晶圆制造上已经成熟的自对准四重曝光的思路，把它反过来，应用在母版制造上！
我们用羲之，先刻画出一个16纳米周期的基础图案，然后通过多次、精准的沉积和蚀刻，在母版上，自我生长、复制出周期为4纳米的结构！
这在工艺上，极其复杂，但在理论上，是完全可行的！”
林燃鼓掌道：“没错，数学层面的问题我帮你们已经解决了，母版的制造需要靠各位的努力，它绝对不会容易，但也绝对能够实现。
最后一步的刻录，有从佳能进口的NIL光刻机来帮我们做到！
一旦成功，依托华国的制造能力，我们将激活史无前例的7nm制程。
这段时间霓虹给我们转让的，已经充分成熟的2